SUBSTRATE HOLDER FOR USE IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS

A substrate holder for use in a lithographic apparatus and configured to support a substrate, the substrate holder comprising a main body having a main body surface, a plurality of main burls projecting from the main body surface, wherein each main burl has a distal end surface configured to support the substrate, a first seal member projecting from the main body surface and having an upper surface, the first seal member surrounding the plurality of main burls and configured to restrict the passage of liquid between the substrate and the main body surface radially inward past the first seal member; and a plurality of minor burls projecting from the upper surface of the first seal member, wherein each minor burl has a distal end surface configured to support the substrate. La présente invention concerne un support de substrat destiné à être utilisé dans un appareil lithographique et configuré pour supporter un substrat, le support de substrat comprenant un corps principal ayant une surface de corps principal, une pluralité de nœuds principaux faisant saillie de la surface de corps principal, chaque nœud principal ayant une surface d'extrémité distale configurée pour supporter le substrat, un premier élément d'étanchéité faisant saillie de la surface de corps principal et ayant une surface supérieure, le premier élément d'étanchéité entourant la pluralité de nœuds principaux et configuré pour restreindre le passage de liquide entre le substrat et la surface de corps principal radialement vers l'intérieur au-delà du premier élément d'étanchéité ; et une pluralité de nœuds mineurs faisant saillie de la surface supérieure du premier élément d'étanchéité, chaque nœud mineur ayant une surface d'extrémité distale configurée pour supporter le substrat.