METHODS AND APPARATUS FOR CONTROLLING CONTAMINANT DEPOSITION ON A DYNODE ELECTRON-EMMISSIVE SURFACE

The present invention relates to generally to components of scientific analytical equipment, and particularly to methods for extending the operational lifetime or otherwise improving the performance of dynodes used in electron multipliers. An aspect of the invention is embodied in a method for: (i) increasing the secondary electron yield of a dynode and/or (ii) decreasing the rate of degradation of electron yield of a dynode, the method comprising the step of exposing a dynode electron-emissive surface to an electron flux under conditions causing electron-impact induced removal of a contaminant deposited on the dynode electron-emissive surface. The conditions may be selected such that the electron-mediated removal is enhanced relative to a contaminant deposition process so as to provide a net decrease in the rate of contaminant deposition and/or a decrease in the amount of contaminant present on the dynode electron-emissive surface. La présente invention concerne d'une manière générale des composants d'un équipement analytique scientifique. Plus particulièrement, l'invention concerne des procédés permettant de prolonger la durée de vie fonctionnelle ou en outre d'améliorer la performance de dynodes utilisées dans des multiplicateurs d'électrons. Un aspect de l'invention mis en œuvre dans un procédé permet : (i) d'augmenter le rendement d'électrons secondaires d'une dynode et/ou (ii) de diminuer le taux de dégradation du rendement d'électrons d'une dynode, le procédé comprenant l'étape consistant à exposer une surface émissive d'électrons de dynode à un flux d'électrons dans des conditions occasionnant l'élimination induite par impact d'électrons d'un contaminant déposé sur la surface émissive d'électrons de dynode. Les conditions peuvent être choisies de telle sorte que l'élimination induite par des électrons est améliorée par rapport à un procédé de dépôt de contaminant de façon à garantir une nette diminution de la vitesse de dépôt de contaminant et/ou une diminution de la quantité de contaminant présent sur la surface émissive d'électrons de dynode.