LAMP INFRARED RADIATION PROFILE CONTROL BY LAMP FILAMENT DESIGN AND POSITIONING

Methods and apparatus disclosed herein generally relate to lamp heating of process chambers used to process semiconductor substrates. More specifically, implementations disclosed herein relate to arrangement and control of lamps for heating of semiconductor substrates. In some implementations of the present disclosure, fine-tuning of temperature control is achieved by dividing different lamps within an array of lamps into various subgroups or lamp assemblies defined by a specific characteristic. These various subgroups may be based on characteristics such as lamp design and/or lamp positioning within the processing chamber. La présente invention concerne des procédés et un appareil qui portent généralement sur le chauffage par lampe de chambres de traitement servant à traiter des substrats semi-conducteurs. Plus précisément, la présente invention concerne des modes de réalisation qui portent sur l'agencement et le contrôle de lampes destinées à chauffer des substrats semi-conducteurs. Selon certains modes de réalisation de la présente invention, un réglage fin du contrôle de température est atteint en divisant différentes lampes dans un réseau de lampes en divers sous-groupes ou ensembles de lampes définis par une caractéristique spécifique. Ces divers sous-groupes peuvent être basés sur des caractéristiques telles que la conception des lampes et/ou le positionnement des lampes dans la chambre de traitement.