ADSORBENT-ASSISTED STABILIZATION OF HIGHLY REACTIVE GASES
A method of adsorbing a highly reactive gas onto an adsorbent material comprising adsorbing the highly reactive gas to the adsorbent material. The absorbent material comprises at least one Lewis basic functional group, or pores of a size to hold a single molecule of the highly reactive gas, or inert...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A method of adsorbing a highly reactive gas onto an adsorbent material comprising adsorbing the highly reactive gas to the adsorbent material. The absorbent material comprises at least one Lewis basic functional group, or pores of a size to hold a single molecule of the highly reactive gas, or inert moieties which are provided to the adsorbent material at the same time at the same time as the highly reactive gas, prior to adsorbing the highly reactive gas or after adsorbing the highly reactive gas, or the highly reactive gas reacts with moieties of the adsorbent material resulting in passivation of the adsorbent material. A rate of decomposition of the adsorbed highly reactive gas is lower than a rate of decomposition for the neat gas at equal volumetric loadings and equal temperatures for both the adsorbed highly reactive gas and the neat gas.
L'invention concerne un procédé d'adsorption d'un gaz hautement réactif sur un matériau adsorbant qui comprend l'adsorption du gaz hautement réactif sur le matériau adsorbant. Le matériau adsorbant comprend au moins un groupe fonctionnel de base de Lewis, ou des pores ayant une taille permettant de contenir une molécule unique du gaz hautement réactif, ou des fractions inertes qui sont fournies au matériau adsorbant en même temps que le gaz hautement réactif, avant l'adsorption du gaz hautement réactif ou après l'adsorption du gaz hautement réactif, ou le gaz hautement réactif réagit avec des fractions du matériau adsorbant, ce qui conduit à une passivation du matériau adsorbant. Une vitesse de décomposition du gaz hautement réactif adsorbé est inférieure à une vitesse de décomposition du gaz pur à des charges volumétriques égales et à des températures égales à la fois pour le gaz hautement réactif adsorbé et le gaz pur. |
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