CONTROL SYSTEM FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS

A control system is configured to adjust a wavefront of a beam or radiation. The control system has a pair of mirrors defining a part of the propagation path of the beam. Each of the mirrors has a profiled reflective surface configured to cause a change in the beam's wavefront. The mirrors are...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DENEUVILLE, Francois, TYCHKOV, Andrey
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A control system is configured to adjust a wavefront of a beam or radiation. The control system has a pair of mirrors defining a part of the propagation path of the beam. Each of the mirrors has a profiled reflective surface configured to cause a change in the beam's wavefront. The mirrors are positioned in such a manner that rotating the mirrors, relative to one another, enables to adjust the wavefront without affecting the propagation path. Selon l'invention, un système de commande est configuré pour ajuster un front d'onde d'un faisceau ou d'un rayonnement. Le système de commande comporte une paire de miroirs définissant une partie du trajet de propagation du faisceau. Chacun des miroirs a une surface réfléchissante profilée configurée pour provoquer un changement dans le front d'onde du faisceau. Les miroirs sont positionnés de telle sorte que la rotation des miroirs, l'un par rapport à l'autre, permet d'ajuster le front d'onde sans affecter le trajet de propagation.