MEASURING THIN FILMS ON GRATING AND BANDGAP ON GRATING

Methods and systems disclosed herein can measure thin film stacks, such as film on grating and bandgap on grating in semiconductors. For example, the thin film stack may be a 1D film stack, a 2D film on grating, or a 3D film on grating. One or more effective medium dispersion models are created for the film stack. Each effective medium dispersion model can substitute for one or more layers. A thickness of one or more layers can be determined using the effective medium dispersion based scatterometry model. In an instance, three effective medium dispersion based scatterometry models are developed and used to determine thickness of three layers in a film stack. Des procédés et des systèmes de la présente invention peuvent mesurer des empilements de couches minces, tels qu'un film sur réseau et une bande interdite sur réseau dans des semi-conducteurs. Par exemple, l'empilement de couches minces peut être un empilement de films 1D, un film 2D sur réseau ou un film 3D sur réseau. Un ou plusieurs modèles de dispersion de milieu efficace sont créés pour l'empilement de films. Chaque modèle de dispersion de milieu efficace peut remplacer une ou plusieurs couches. Une épaisseur d'une ou plusieurs couches peut être déterminée au moyen du modèle de diffusométrie à base de dispersion de milieu efficace. Dans un exemple, trois modèles de diffusométrie à base de dispersion de milieu efficace sont développés et utilisés pour déterminer l'épaisseur de trois couches dans un empilement de films.