METHOD OF ADAPTING FEED-FORWARD PARAMETERS

Disclosed herein is a method for correcting values of one or more feed-forward parameters used in a process of patterning substrates, the method comprising: obtaining measured overlay and/or alignment error data of a patterned substrate; calculating one or more correction values for the one or more...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ERDAMAR, Ahmet Koray, YAGUBIZADE, Hadi, CEKLI, Hakki
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Disclosed herein is a method for correcting values of one or more feed-forward parameters used in a process of patterning substrates, the method comprising: obtaining measured overlay and/or alignment error data of a patterned substrate; calculating one or more correction values for the one or more feed-forward parameters in dependence on the measured overlay and/or alignment error data. L'invention concerne un procédé de correction de valeurs d'un ou de plusieurs paramètres d'action anticipative utilisés dans un procédé de formation de motifs sur des substrats, le procédé comprenant les étapes consistant à: obtenir des données d'erreur de superposition et/ou d'alignement mesurées relatives à un substrat à motifs; calculer une ou plusieurs valeurs de correction pour le ou les paramètres d'action anticipative en fonction des données d'erreur de superposition et/ou d'alignement mesurées.