MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM

Ein erfindungsgemäßer Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Spiegelsubstrat (12, 32, 52) weist auf: Einen Reflexionsschichtstapel (21, 41, 61) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11, 31, 51 ) auftreffender elektromagnetischer Strahlung einer Arbeitswellenlänge, und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16, 36, 56), welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtstapel angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (20, 40, 60) und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (14, 34, 54) mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist. Gemäß einem Aspekt ist eine Verspannungsschicht (98) vorgesehen, welche ein mit der Beaufschlagung mit einem elektrischen Feld einhergehendes Einsinken der piezoelektrischen Schicht (96) in das Spiegelsubstrat (92) im Vergleich zu einem analogen Aufbau ohne die Verspannungsschicht reduziert und damit die effektive Auslenkung der piezoelektrischen Schicht (96) erhöht. The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure system, comprising a mirror substrate (12, 32, 52), which mirror has a reflection layer stack (21, 41, 61) for reflecting electromagnetic radiation of a working wavelength hitting the optical active surface (11, 31, 51) and has at least one piezoelectric layer (16, 36, 56), which is arranged between the mirror substrate and the reflection layer stack and to which an electric field for producing locally variable deformation can be applied by means of a first electrode arrangement (20, 40, 60) located on the side of the piezoelectric layer facing the reflection layer stack and by means of a second electrode arrangement (14, 34, 54) located on the side of the piezoelectric layer facing the mirror substrate. According to one aspect, a bracing layer (98) is provided, which reduces a sinking of the piezoelectric layer (96) into the mirror substrate (92) accompanying the application of an electric field in comparison with an analogous design without the bracing layer and thus increases the effective deflection of the piezoelectric layer (96). L'invention concerne un miroir de l'invention, destiné en particulier à une installation de microlithographie par projection, pourvu d'un substr