DECONTAMINATION METHOD USING CHLORINE DIOXIDE GAS

A method for removing a contaminated substance by providing a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space, and for reducing chemical corrosion of contents in the closed space. The method comprises: in the closed space having an environment with a water vapor content of not more than 10 g/m3,...

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Hauptverfasser: TSUTSUI, Shozo, NAKAO, Hirotsugu, SUZUE, Mitsuyoshi
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method for removing a contaminated substance by providing a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space, and for reducing chemical corrosion of contents in the closed space. The method comprises: in the closed space having an environment with a water vapor content of not more than 10 g/m3, a step of generating chlorine dioxide gas; and a step of introducing the chlorine dioxide gas into the closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 10 to 230 ppm and a CT value of 50 to 2000 ppm/h. L'invention concerne un procédé pour éliminer une substance contaminée en fournissant une phase gazeuse de dioxyde de chlore dans un espace fermé, et pour réduire la corrosion chimique des contenus dans l'espace fermé. Le procédé comprend les étapes suivantes : dans l'espace fermé ayant un environnement avec une teneur en vapeur d'eau de pas plus de 10 g/m3, une étape de génération de dioxyde de chlore gazeux ; et une étape d'introduction du dioxyde de chlore gazeux dans l'espace fermé à une concentration de dioxyde de chlore gazeux de 10 à 230 ppm et une valeur CT de 50 à 2000 ppm/h. 閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を除去し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって、水蒸気量10g/m3以下の環境下とした前記閉鎖空間において、二酸化塩素ガスを発生させる工程と、二酸化塩素ガス濃度10~230ppm、かつCT値50~2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む方法。