INTEGRATED SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT ON HIGH TEMPERATURE CERAMIC HEATER

Embodiments herein provide a substrate temperature monitoring system for directly monitoring the temperature of a substrate during a plasma enhanced deposition process, such as a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process. In one embodiment, a substrate support assembly includes a support shaft, a substrate support disposed on the support shaft, and a substrate temperature monitoring system for measuring a temperature of a substrate to be disposed on the substrate support. The substrate temperature monitoring system includes a optical fiber tube, a light guide coupled to the optical fiber tube, and a cooling assembly disposed about a junction of the optical fiber tube and the light guide. Herein, at least a portion of the light guide is disposed in an opening extending through the support shaft and into the substrate support and the cooling assembly maintains the optical fiber tube at a temperature of less than about 100 °C during substrate processing. Des modes de réalisation de la présente invention concernent un système de surveillance de température de substrat permettant de surveiller directement la température d'un substrat pendant un processus de dépôt assisté par plasma, tel qu'un processus de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD). Dans un mode de réalisation, un ensemble de support de substrat comprend un arbre de support, un support de substrat disposé sur l'arbre de support, et un système de surveillance de température de substrat pour mesurer une température d'un substrat à disposer sur le support de substrat. Le système de surveillance de température de substrat comprend un tube de fibre optique, un guide de lumière couplé au tube de fibre optique, et un ensemble de refroidissement disposé autour d'une jonction du tube de fibre optique et du guide de lumière. Au moins une partie du guide de lumière est disposée dans une ouverture s'étendant à travers l'arbre de support et dans le support de substrat et l'ensemble de refroidissement maintient le tube de fibre optique à une température inférieure à environ 100 °C pendant le traitement du substrat.