STABLE PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING ORGANOSULPHUR COMPOUNDS

The present invention provides a photoresist composition Part A, comprising a carboxylic functional ethylenically unsaturated resin having an acid value equal to or greater than 10 mg KOH/g, and an organosulphur compound. The photoresist composition may further comprise a Part B, comprising a resin...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MATEER, Edward, HALL, Stephen, ILLSLEY, Derek, WILKINSON, Peter
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The present invention provides a photoresist composition Part A, comprising a carboxylic functional ethylenically unsaturated resin having an acid value equal to or greater than 10 mg KOH/g, and an organosulphur compound. The photoresist composition may further comprise a Part B, comprising a resin that may react with the carboxylic groups of Part A. The photoresist compositions are shelf-stable, alkali developable, and provide cured resists with improved surface- and through-cure, improved gloss, and reduced undercut and overcut. La présente invention concerne une composition de résine de photoréserve comprenant une partie A à base d'une résine à insaturation éthylénique à fonction carboxylique ayant un indice d'acide égal ou supérieur à 10 mg KOH/g, et un composé organosoufré. La composition de résine de photoréserve peut en outre comprendre une partie B, à base d'une résine apte à réagir avec les groupes carboxyliques de la partie A. Les compositions de résine de photoréserve selon l'invention sont stables au stockage, développables en milieu alcalin, et permettent d'obtenir des réserves durcies présentant un durcissement de surface et dans l'épaisseur améliorés, un brillant amélioré, et une contre-dépouille et surcoupe réduites.