REACTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS COMPRISING SAME

The present invention relates to a reactor for chemical vapor deposition and a chemical vapor deposition apparatus comprising same, the reactor comprising a reaction container having a reaction chamber forming a thin film on a wafer, wherein the reaction container is formed by allowing at least two...

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1. Verfasser: OH, Chung Seok
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a reactor for chemical vapor deposition and a chemical vapor deposition apparatus comprising same, the reactor comprising a reaction container having a reaction chamber forming a thin film on a wafer, wherein the reaction container is formed by allowing at least two members to be detachably coupled to each other, thereby enabling maintenance and management costs to be reduced. In addition, one reaction chamber is formed inside the chamber of the reactor, and a plurality of reactors having one reaction chamber is formed such that thin film quality deterioration can be prevented while productivity is improved. Additionally, each reaction chamber is independently operated, and thus flexible production can be carried out while productivity is improved. La présente invention concerne un réacteur pour dépôt chimique en phase vapeur et un appareil de dépôt chimique en phase vapeur le comprenant, le réacteur comprenant un récipient de réaction ayant une chambre de réaction formant un film mince sur une plaquette, le récipient de réaction étant formé en permettant à au moins deux éléments d'être couplés amovibles l'un à l'autre, ce qui permet de réduire les coûts de maintenance et de gestion. De plus, une chambre de réaction est formée à l'intérieur de la chambre de la chambre de réacteur, et une pluralité de réacteurs ayant une chambre de réaction est formée de telle sorte qu'une détérioration de qualité de film mince peut être empêchée tandis que la productivité est améliorée. De plus, chaque chambre de réaction est actionnée de manière indépendante, et une production flexible est ainsi possible tout en améliorant la productivité. 본 발명은 화학 기상 증착용 반응기 및 이를 포함하는 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로서, 웨이퍼에 박막을 형성하는 반응실을 갖는 반응용기를 포함하고, 상기 반응용기는 적어도 2개의 부재가 서로 탈착 가능하게 결합되어 형성됨에 따라 유지 및 관리 비용을 절감할 수 있다. 또한, 반응기의 챔버 내부에 반응실이 하나로 형성되고, 하나의 반응실을 갖는 반응기가 복수로 형성됨에 따라, 생산성을 향상시키면서 박막의 품질 저하를 방지할 수 있다. 또한, 각 반응실이 서로 독립적으로 작동됨에 따라, 생산성을 향상시키면서 유연한 생산이 이루어질 수 있다.