MATERIAL DEPOSITION PREVENTION ON A WORKPIECE IN A PROCESS CHAMBER

Focus ring assemblies for plasma processing apparatus are provided. In one example implementation, an apparatus includes a plasma source configured to generate a plasma. The apparatus includes a chamber configured to receive a workpiece. The apparatus includes a workpiece support contained in the chamber and configured to support the workpiece. The apparatus includes a focus ring assembly. The focus ring assembly includes a focus ring having an upper tier and a lower tier. An inner edge of the upper tier can be separated a lateral distance of at least about 3 mm from an outer edge of the workpiece located on the workpiece support. La présente invention concerne des ensembles anneaux de mise au point pour un appareil de traitement au plasma. Dans un exemple de mode de réalisation, un appareil comprend une source de plasma configurée pour générer un plasma. L'appareil comprend une chambre configurée pour recevoir une pièce à usiner. L'appareil comprend un support de pièce à usiner contenu dans la chambre et configuré pour soutenir la pièce à usiner. L'appareil comprend un ensemble anneau de mise au point. L'ensemble anneau de mise au point comprend un anneau de mise au point ayant un niveau supérieur et un niveau inférieur. Un bord interne du niveau supérieur peut être séparé d'une distance latérale d'environ au moins 3 mm à partir d'un bord externe de la pièce à usiner située sur le support de pièce à usiner.