WAFER ROTATING DEVICE
The present invention relates to a wafer rotating device comprising: a base provided inside a chemical vapor deposition device for forming a thin film on a wafer; a susceptor rotatably provided on an upper part of the base; and a satellite rotatably provided on an upper part of the susceptor and on...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a wafer rotating device comprising: a base provided inside a chemical vapor deposition device for forming a thin film on a wafer; a susceptor rotatably provided on an upper part of the base; and a satellite rotatably provided on an upper part of the susceptor and on which the wafer is loaded, wherein the base discharges operating gas, the susceptor is rotated by the operating gas discharged from the base, and the satellite is formed so as to be rotated by the operating gas having rotated the susceptor. Therefore, a structure of the wafer rotating device can be simplified, manufacturing costs can be reduced, restriction on the material of the susceptor can be removed, and the thickness of the susceptor can be reduced.
La présente invention concerne un dispositif de rotation de tranche comprenant : une base disposée à l'intérieur d'un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur pour former un film mince sur une tranche; un suscepteur disposé de façon rotative sur une partie supérieure de la base; et un satellite disposé de manière rotative sur une partie supérieure du suscepteur et sur lequel la tranche est chargée, la base évacuant le gaz de fonctionnement, le suscepteur est entraîné en rotation par le gaz de fonctionnement déchargé à partir de la base, et le satellite est formé de façon à être entraîné en rotation par le gaz de fonctionnement ayant entrainé en rotation le suscepteur. Par conséquent, une structure du dispositif de rotation de tranche peut être simplifiée, les coûts de fabrication peuvent être réduits, la restriction sur le matériau du suscepteur peut être éliminée, et l'épaisseur du suscepteur peut être réduite.
본 발명은 웨이퍼 회전장치에 관한 것으로서, 웨이퍼에 박막을 형성하는 화학 기상 증착 장치의 내부에 구비되는 베이스; 상기 베이스의 상부에 회전 가능하게 설치되는 서셉터; 및 상기 서셉터의 상부에 회전 가능하게 설치되고 상기 웨이퍼가 안착되는 새틀라이트;를 포함하고, 상기 베이스는 작동 가스를 토출하고, 상기 서셉터는 상기 베이스로부터 토출되는 작동 가스에 의해 회전되며, 상기 새틀라이트는 상기 서셉터를 회전시킨 작동 가스에 의해 회전되게 형성될 수 있다. 이에 의하여, 웨이퍼 회전장치의 구조를 단순화하고, 제조원가를 감소시키고, 서셉터의 재질에 대한 제약을 제거하며, 서셉터의 두께를 감소시킬 수 있다. |
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