DEPOSITION SYSTEM WITH VACUUM PRE-LOADED DEPOSITION HEAD

A thin film deposition system includes a vacuum-preloaded gas bearing deposition head positioned in an external environment having an ambient pressure, the deposition head having an output face including a plurality of source openings through which gaseous materials are supplied and one or more exhaust openings. An exhaust pressure at the exhaust openings is less than ambient pressure, and a source pressure at the source openings is greater than that at the exhaust openings, with the pressure at the outermost source openings being greater than ambient pressure. A motion control system moves a substrate unit over the output face in the in-track direction without constraining its motion in a direction normal to the output face to a point where a center of gravity of the substrate unit is beyond the first edge of the output face. L'invention concerne un système de dépôt de film mince comprenant une tête de dépôt de support de gaz préchargé sous vide positionnée dans un environnement externe présentant une pression ambiante, la tête de dépôt présentant une face de sortie comprenant une pluralité d'ouvertures de source à travers lesquelles sont fournis des matériaux gazeux et une ou plusieurs ouvertures d'échappement. Une pression d'échappement au niveau des ouvertures d'échappement est inférieure à la pression ambiante, et une pression de source au niveau des ouvertures de source est supérieure à celle au niveau des ouvertures d'échappement, la pression au niveau des ouvertures de source les plus extérieures étant supérieure à la pression ambiante. Un système de commande de déplacement déplace une unité de substrat sur la face de sortie dans la direction de la piste sans contraindre son déplacement dans une direction perpendiculaire à la face de sortie vers un point où un centre de gravité de l'unité de substrat est au-delà du premier bord de la face de sortie.