A SENSOR MARK AND A METHOD OF MANUFACTURING A SENSOR MARK

A SENSOR MARK AND A METHOD OF MANUFACTURING A SENSOR MARK

A sensor mark (17) comprising: a substrate (200) having: a first deep ultra violet (DUV) absorbing layer (310, 320, 330) comprising a first material which substantially absorbs DUV radiation; a first protecting layer (600) comprising a second material; wherein: the first DUV absorbing layer has a fi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BANINE, Vadim, NASALEVICH, Maxim, WRICKE, Sandro, NIKIPELOV, Andrey, VLES, David, JAMBUNATHAN, Madhusudhanan, STAS, Roland, WELTERS, Wilhelmus, BECKERS, Johan, KLUGKIST, Joost
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
COLORIMETRY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT
MEASURING
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
RADIATION PYROMETRY
TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:A sensor mark (17) comprising: a substrate (200) having: a first deep ultra violet (DUV) absorbing layer (310, 320, 330) comprising a first material which substantially absorbs DUV radiation; a first protecting layer (600) comprising a second material; wherein: the first DUV absorbing layer has a first through hole (500) in it; the first protecting layer is positioned, in plan, in the first through hole (500) and the first protecting layer in the first through hole has a patterned region comprising a plurality of through holes (700); and the second material is more noble than the first material. La présente invention concerne un repère de capteur (17) qui comprend un substrat (200) ayant : une première couche absorbant les ultraviolets lointains (DUV) (310, 320, 330) qui comporte un premier matériau absorbant sensiblement un rayonnement DUV ; et une première couche de protection (600) comportant un second matériau. Dans la première couche absorbant les DUV un premier trou débouchant (500) est pratiqué. La première couche de protection est positionnée, dans le plan, dans le premier trou débouchant (500), et ladite première couche de protection dans le premier trou débouchant a une région à motifs comprenant une pluralité de trous débouchants (700). Le second matériau est plus noble que le premier matériau.