POROUS BODY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

Die Erfindung betrifft einen porösen Körper, insbesondere einen Filterkörper oder Isolationskörper, ein Verfahren zur Herstellung eines porösen Körpers und eine Verwendung von kristallinem Siliziumnitrid, wobei ein poröser, aus Kohlenstoff oder einem keramischen Werkstoff bestehender Basiskörper mit...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BRENNFLECK, Karl, GALLE, Johannes
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft einen porösen Körper, insbesondere einen Filterkörper oder Isolationskörper, ein Verfahren zur Herstellung eines porösen Körpers und eine Verwendung von kristallinem Siliziumnitrid, wobei ein poröser, aus Kohlenstoff oder einem keramischen Werkstoff bestehender Basiskörper mittels chemischer Gasphaseninfiltration (CVI) infiltriert wird, wobei der Basiskörper mit Siliziumnitrid (Si3N4) infiltriert wird, wobei bei dem Infiltrieren des Basiskörpers zumindest eine Oberflächenschicht aus dem Siliziumnitrid innerhalb von Poren des Basiskörpers ausgebildet wird. The invention relates to a porous body, in particular a filter body or insulating body, a method for producing a porous body and to a use of crystalline silicon nitride, wherein a porous base body made of carbon or a ceramic material is infiltrated with a chemical vapour infiltration (CVI), the base body is infiltrated with silicon nitride (Si3N4), in which at least one surface layer is formed from silicon nitride inside pores of the base body when infiltrating the base body. L'invention concerne un corps poreux, en particulier un corps filtrant ou un corps isolant, un procédé de production d'un corps poreux et une utilisation de nitrure de silicium cristallin. Un corps de base poreux constitué de carbone ou d'un matériau céramique est infiltré par infiltration en phase gazeuse (CVI), l'infiltration de ce corps de base étant réalisée au moyen de nitrure de silicium (Si3N4), au moins une couche superficielle de nitrure de silicium étant formée dans les pores du corps de base pendant l'infiltration de ce corps de base.