LASING-GAS MIXTURE FOR EXCIMER LASER

A xenon chloride (XeC1) excimer laser (12) includes a lasing-gas mixture including a buffer gas, a noble gas, a halogen-donating gas, and deuterium. The deuterium is present in a concentration greater than about 10 parts-per-million. Un laser excimère (12) au chlorure de xénon (XeC1) comprend un mél...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	MISYURYAEV, Timur, MELNIKOV, Oleg, BRAGIN, Igor
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS DEVICES USING STIMULATED EMISSION ELECTRICITY
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