LASING-GAS MIXTURE FOR EXCIMER LASER
A xenon chloride (XeC1) excimer laser (12) includes a lasing-gas mixture including a buffer gas, a noble gas, a halogen-donating gas, and deuterium. The deuterium is present in a concentration greater than about 10 parts-per-million. Un laser excimère (12) au chlorure de xénon (XeC1) comprend un mél...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | A xenon chloride (XeC1) excimer laser (12) includes a lasing-gas mixture including a buffer gas, a noble gas, a halogen-donating gas, and deuterium. The deuterium is present in a concentration greater than about 10 parts-per-million.
Un laser excimère (12) au chlorure de xénon (XeC1) comprend un mélange de gaz-émetteur de laser comprenant un gaz tampon, un gaz noble, un gaz donneur d'halogène et du deutérium. Le deutérium est présent dans une concentration supérieure à environ 10 parties par million. |
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