A SYSTEM FOR WIPING A PHOTOCONDUCTIVE SURFACE

In an example, a first wiper blade is to contact the photoconductive surface and to wipe at least some of particles and fluid from the photoconductive surface and wherein a second wiper blade is to contact the photoconductive surface and to wipe at least some of the particles and fluid that have passed the first wiper blade, from the photoconductive surface. The first wiper blade includes at least one perforation forming a passage through the wiper blade to transmit part of the particles and fluid during wiping. Dans un exemple, une première lame d'essuyage est destinée à entrer au contact de la surface photconductrice et à essuyer au moins en partie des particules et du fluide présents sur la surface photocondutrice, et une deuxième lame d'essuyage est destinée à venir au contact de la surface photoconductrice et à essuyer au moins en partie les particules et le fluide sur la surface photoconductrice qui ont échappé à la première lame d'essuyage. La première lame d'essuyage comporte au moins une perforation formant un passage à travers la lame d'essuyage servant à transférer une partie des particules et du fluide au cours de l'essuyage.