FILM FORMING DEVICE

In the present invention, recovery after maintenance is facilitated in a film forming device. Specifically, a film forming device 7 is provided: with a chamber 10 for accommodating base material; and an electrode unit 20 provided detachably on the chamber 10 and having electrodes 25 for discharging for performing film formation with the base material in the chamber 10. The electrodes 25 have linear parts 31, 32 and a folded part 33 for connecting one linear part 31 with the other linear part 32. The electrode unit 20 further has an atmospheric box 27 for covering the folded part 33 and assuring airtightness inside. The atmospheric box 27 is provided inside the chamber 10. Dans la présente invention, la récupération après maintenance est facilitée dans un dispositif de formation de film. Spécifiquement, l'invention concerne un dispositif de formation de film 7 qui est pourvu d'une chambre 10 pour recevoir un matériau de base ; et une unité d'électrode 20 disposée de façon détachable sur la chambre 10 et comportant des électrodes 25 pour décharge pour effectuer une formation de film avec le matériau de base dans la chambre 10. Les électrodes 25 ont des parties linéaires 31, 32 et une partie pliée 33 pour raccorder une partie linéaire 31 à l'autre partie linéaire 32. L'unité d'électrode 20 comporte en outre une boîte atmosphérique 27 pour recouvrir la partie pliée 33 et assurer l'étanchéité à l'air à l'intérieur. La boîte atmosphérique 27 est disposée à l'intérieur de la chambre 10. 成膜装置において、メンテナンス後の復帰を容易とする。具体的には、成膜装置７は、基材を収容するチャンバー１０と、チャンバー１０内の基材に対して成膜を行うための放電用の電極２５を有すると共にチャンバー１０に取り外し可能として設けられている電極ユニット２０とを備えている。電極２５は、直線部３１，３２と、一つの直線部３１と別の直線部３２とを繋げている折り返し部３３とを有している。電極ユニット２０は、更に、折り返し部３３を覆うと共に内部の気密性が確保された大気ボックス２７を有している。大気ボックス２７はチャンバー１０内に設けられている。