METHOD FOR LAYER BY LAYER OPTIMIZATION OF A THIN FILM

Provided herein is a method of coating a substrate is provided. The method includes providing at least one test substrate, b) a programmed physical thickness (T) for at least one layer of the multi-layered coating, and c) a design file comprising a target physical thickness and target spectral performance for the at least one layer of the multi-layered coating; depositing the at least one layer onto the test substrate to form an applied layer having an optical thickness; measuring a spectral performance of the applied layer; and comparing the programmed physical thickness (T) to the optical thickness of the applied layer, thereby generating a data set (ΔΤ). A system and an optical article produced by the method described herein are also disclosed. La présente invention concerne un procédé de revêtement d'un substrat. Le procédé comprend la fourniture d'au moins un substrat d'essai, b) une épaisseur physique programmée (T) pour au moins une couche du revêtement multicouche, et c) un fichier de conception comprenant une épaisseur physique cible et des performances spectrales cibles pour l'au moins une couche du revêtement multicouche ; le dépôt de l'au moins une couche sur le substrat d'essai pour former une couche appliquée ayant une épaisseur optique ; la mesure d'une performance spectrale de la couche appliquée ; et la comparaison de l'épaisseur physique programmée (T) à l'épaisseur optique de la couche appliquée, de façon à générer un ensemble de données (ΔΤ). L'invention concerne en outre un système et un article optique produit par le procédé de l'invention.