METROLOGY TOOL AND METHOD OF USING THE SAME

A method including: subsequent to a first device lithographic step of a device patterning process, measuring a degraded metrology mark on an object and/or a device pattern feature associated with the degraded metrology mark, the degraded metrology mark arising at least in part from the first device lithographic step on the object; and prior to a second device lithographic step of the device patterning process on the object, creating a replacement metrology mark, for use in the patterning process in place of the degraded metrology mark, on the object. Selon cette invention, un procédé consiste à, après une première étape lithographique d'un processus de formation de motifs par un dispositif, mesurer un repère de métrologie altéré sur un objet et/ou une caractéristique de motif de dispositif associée au repère de métrologie altéré, le repère de métrologie altéré étant issu au moins en partie de la première étape lithographique de dispositif sur l'objet; et avant une seconde étape lithographique du processus de formation de motifs par le dispositif sur l'objet, créer un repère de métrologie de remplacement, destiné à être utilisé dans le processus de formation de motifs à la place du repère de métrologie altéré, sur l'objet.