METHOD FOR PREDICTING DEPOSITION SPEED OF SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET HAVING DEPOSITION SPEED CONTROLLED THEREBY AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

The present invention relates to a sputtering target and a method for manufacturing the same, the sputtering target identifying a speed index according to a structure of internal organizational characteristics thereof, predicting the deposition speed according to the speed index, and having the deposition speed controlled according to the speed index. The present invention provides, as an embodiment, the sputtering target manufactured by raw material powder including a metal material selected from a metal group, of which a particle structure is a body-centered cubic lattice, a face-centered cubic lattice or a close packed hexagonal lattice, wherein the speed index, which is calculated by measuring plane fractions of the {001}, {011} and {111} planes of the target material in the sputtering target, is 19.3% to 47.3%. La présente invention concerne une cible de pulvérisation et son procédé de fabrication, la cible de pulvérisation identifiant un indice de vitesse en fonction d'une structure de caractéristiques organisationnelles internes associée, prédisant la vitesse de dépôt en fonction de l'indice de vitesse et faisant en sorte que la vitesse de dépôt soit réglée en fonction de l'indice de vitesse. La présente invention concerne, dans un mode de réalisation, la cible de pulvérisation fabriquée au moyen d'une poudre de matière première comprenant une matière métallique, choisie dans un groupe de métaux dont la structure particulaire est un treillis cubique à corps centré, un réseau cubique à faces centrées ou un réseau hexagonal compact serré; l'indice de vitesse, qui est calculé par la mesure de fractions planes des plans {11} et {111} de la matière cible dans la cible de pulvérisation, est compris entre 19,3 % et 47,3 %. 본 발명은 스퍼터링 타켓의 내부 조직특성의 구조에 따라 속도지수를 규명하고, 이 속도지수에 따른 증착속도를 예측하며, 속도지수에 따라 증착속도가 제어된 스퍼터링 타겟 및 이를 제조할 수 있는 방법과 관련된다. 본 발명은 실시예로, 입자 구조가 체심입방격자, 면심입방격자 또는 조밀육방격자인 금속군 중에서 선택되는 금속 소재로 이루어지는 원료 분말로 제조된 스퍼터링 타겟으로서, 스퍼터링 타켓의 타켓물질의 {001}면, {011}면 및 {111}면의 면 분율을 측정하여 산출된 속도지수가 19.3% 내지 47.3%인 스퍼터링 타겟을 제시한다.