A LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING AN OBJECT WITH AN UPPER LAYER HAVING IMPROVED RESISTANCE TO PEELING OFF

A lithographic apparatus comprising: an object, the object comprising: a substrate and optionally a lower layer on the substrate; an upper layer; and an intermediate layer between the upper layer and the substrate, wherein a bond strength between the intermediate layer and the substrate or lower lay...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BANINE, Vadim, NASALEVICH, Maxim, WRICKE, Sandro, NIKIPELOV, Andrey, STAS, Roland, KLUGKIST, Joost
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A lithographic apparatus comprising: an object, the object comprising: a substrate and optionally a lower layer on the substrate; an upper layer; and an intermediate layer between the upper layer and the substrate, wherein a bond strength between the intermediate layer and the substrate or lower layer being greater than a bond strength between the intermediate layer and the upper layer and the intermediate layer has a Young's Modulus and/or a Poisson ratio within 20% of that of the upper layer. La présente invention concerne un appareil lithographique comprenant : un objet, l'objet comprenant : un substrat et éventuellement une couche inférieure située sur le substrat ; une couche supérieure ; et une couche intermédiaire située entre la couche supérieure et le substrat, une force de liaison entre la couche intermédiaire et le substrat ou la couche inférieure étant supérieure à une force de liaison entre la couche intermédiaire et la couche supérieure, et la couche intermédiaire ayant un module de Young et/ou un coefficient de Poisson ayant une valeur comprise dans les 20 % de celui de la couche supérieure.