MAGNETICALLY LEVITATED AND ROTATED CHUCK FOR PROCESSING MICROELECTRONIC SUBSTRATES IN A PROCESS CHAMBER

Cleaning systems and methods for semiconductor fabrication use rotatable and optionally translatable chuck assemblies that incorporate magnetic levitation and rotation functionality to cause chuck rotation. The rotating chuck components do not physically contact other chuck components when levitated and rotating. This eliminates corresponding components whose friction or lubricants might generate contamination. The low friction chuck functionality of the present invention is useful in any fabrication tool in which a workpiece is supported on a rotating support during a treatment. The chuck is particularly useful in cryogenic cleaning treatments. By avoiding the use of lubricants for this rotating interface, process chambers can be evacuated and/or vented up to higher pressures much faster. This significantly reduces cycle time for cryogenic treatments. La présente invention concerne des systèmes et des procédés de nettoyage pour la fabrication de semi-conducteurs, lesdits systèmes et procédés utilisant des ensembles mandrins rotatifs et facultativement mobiles qui incorporent une lévitation magnétique et une fonctionnalité de rotation pour provoquer la rotation du mandrin. Les composants de mandrin rotatifs ne viennent pas physiquement en contact avec d'autres composants de mandrin lors de la lévitation et de la rotation. Ceci élimine des composants correspondants dont le frottement ou des lubrifiants peuvent générer une contamination. La fonctionnalité de mandrin à faible frottement de la présente invention est utile dans tout outil de fabrication dans lequel une pièce à travailler est supportée sur un support rotatif pendant un traitement. Le mandrin est particulièrement utile dans des traitements de nettoyage cryogéniques. En évitant l'utilisation de lubrifiants pour cette interface rotative, des chambres de traitement peuvent être évacuées et/ou ventilées jusqu'à des pressions plus élevées et de manière beaucoup plus rapide. Ceci réduit de manière significative le temps de cycle pour des traitements cryogéniques.