FAULT DISCRIMINATION AND CALIBRATION OF SCATTEROMETRY OVERLAY TARGETS
Scatterometry overlay targets and measurement methods are provided, which are configured to detect and eliminate process-related errors and illumination-related errors from overlay measurements of the targets. Targets comprise at least three cells associated with a measurement direction, wherein at...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Scatterometry overlay targets and measurement methods are provided, which are configured to detect and eliminate process-related errors and illumination-related errors from overlay measurements of the targets. Targets comprise at least three cells associated with a measurement direction, wherein at least two of the cells comprise periodic structures at different target layers, having a same pitch and opposite offsets between the two cells, and at least an additional cell comprises a periodic structure with the same pitch at only one of the target layers. The additional cell(s) are used to detect irregularities in the respective periodic structure(s), enable estimation of process quality, provide reference images, enhance metrology simulations and provide mitigation of errors in critical process steps. Measurement methods incorporate scatterometry measurements ion the additional cell(s) for these purposes.
Cette invention concerne des cibles de mesure de recouvrement par diffusomètre et des procédés de mesure, qui sont configurés pour détecter et éliminer des erreurs liées au processus et des erreurs liées à l'éclairage à partir de mesures de recouvrement des cibles. Les cibles comprennent au moins trois cellules associées à une direction de mesure, au moins deux des cellules comprenant des structures périodiques au niveau de différentes couches cibles, ayant un même pas et des décalages opposés entre les deux cellules, et au moins une cellule supplémentaire comprenant une structure périodique ayant le même pas au niveau d'une seule des couches cibles. La/les cellule(s) supplémentaire(s) est/sont utilisée(s) pour détecter des irrégularités dans la/les structure(s) périodique(s) respective(s), permettre l'estimation de la qualité du processus, fournir des images de référence, améliorer des simulations de métrologie et fournir une atténuation des erreurs dans des étapes de processus critiques. Des procédés de mesure incorporent des mesures de recouvrement par diffusomètre dans la/les cellule(s) supplémentaire(s) à ces fins. |
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