METHOD FOR FORMING A FUNCTIONALISED ASSEMBLY GUIDE

The invention relates to a method for forming a functionalised assembly guide (300) for the self-assembly of a block copolymer by graphoepitaxy, comprising the following steps: - forming at the surface of a substrate (200) a neutralisation layer (210) made of a first material having a first neutral chemical affinity for the block copolymer; - forming on the neutralisation layer (210) a first mask comprising at least one recess; - depositing on the neutralisation layer (210) a second material having a second preferable chemical affinity for one of the copolymer blocks, so as to fill said at least one recess of the first mask; and - selectively etching the first mask relative to the first and second materials, thereby forming at least one guide pattern (320a-320b) made of the second material arranged on the neutralisation layer (210). L'invention concerne un procédé de formation d'un guide d'assemblage fonctionnalisé (300) destiné à l'auto-assemblage d'un copolymère à blocs par grapho-épitaxie, comprenant les étapes suivantes : - former à la surface d'un substrat (200) une couche de neutralisation (210) en un premier matériau présentant une première affinité chimique neutre vis-à-vis du copolymère à blocs; - former sur la couche de neutralisation (210) un premier masque comprenant au moins un évidement; - déposer sur la couche de neutralisation (210) un deuxième matériau présentant une deuxième affinité chimique préférentielle pour l'un des blocs du copolymère, de façon à remplir ledit au moins un évidement du premier masque; et - graver le premier masque sélectivement par rapport aux premier et deuxième matériaux, d'où il résulte au moins un motif de guidage (320a-320b) formé du deuxième matériau disposé sur la couche de neutralisation (210).