POLISHING LIQUID FOR GLASS, AND POLISHING METHOD

This polishing liquid is characterized by containing hydrofluoric acid, an alkali metal, water, and a surfactant, wherein the surfactant is of a sulfonic acid type or a sulfuric acid ester type. The polishing liquid enables inhibition of excessive crystal growth of deposits generated in minute flaws during preliminary polishing, thereby enabling inhibition of surface roughness from occurring after polishing. L'invention concerne un liquide de polissage caractérisé en ce qu'il contient de l'acide fluorhydrique, un métal alcalin, de l'eau et un tensioactif, le tensioactif étant de type acide sulfonique ou de type ester d'acide sulfurique. Le liquide de polissage permet l'inhibition de la croissance cristalline excessive de dépôts générés dans des défauts minuscules pendant le polissage préliminaire, ce qui permet d'empêcher l'apparition d'une rugosité de surface après le polissage. フッ酸とアルカリ金属と水と界面活性剤を含み、前記界面活性剤は、スルホン酸型若しくは硫酸エステル型であることを特徴とする研磨液により、前研磨で微細なキズに生成する析出物の過度な結晶成長を抑制し、研磨後の表面荒れを抑制することができる。