SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

The purpose of the present invention is to provide technology for suppressing the soiling of substrates. A substrate processing device comprises a substrate holding unit for holding a substrate horizontally, a processing liquid supply unit for supplying processing liquid toward the substrate held by the substrate holding unit, and a liquid receiving unit that surrounds the substrate holding unit and receives processing liquid which has splashed off of the substrate. The inner peripheral surface of the liquid receiving unit has a plurality of grooves exposed toward the substrate held by the substrate holding unit, and the direction of extension of the plurality of grooves includes vertical-direction components. As a result, droplets of processing liquid readily collect in the grooves and fall due to the weight of the droplets. Le but de la présente invention est de fournir une technologie pour empêcher l'encrassement de substrats. Un dispositif de traitement de substrat comprend une unité de maintien de substrat pour maintenir un substrat horizontalement, une unité d'alimentation en liquide de traitement pour fournir un liquide de traitement vers le substrat maintenu par l'unité de maintien de substrat, et une unité de réception de liquide qui entoure l'unité de maintien de substrat et reçoit un liquide de traitement qui a débordé du substrat. La surface périphérique interne de l'unité de réception de liquide a une pluralité de rainures exposées vers le substrat maintenu par l'unité de maintien de substrat, et la direction d'extension de la pluralité de rainures comprend des composants de direction verticale. Par conséquent, des gouttelettes de liquide de traitement s'accumulent facilement dans les rainures et tombent en raison du poids des gouttelettes. 基板の汚染を抑制する技術を提供することを目的としている。基板処理装置は、基板を水平に保持する基板保持部と、基板保持部に保持された基板に向けて処理液を供給する処理液供給部と、基板保持部の周囲を取り囲み基板から飛散した処理液を受ける液受け部と、を備える。そして、液受け部の内周面は基板保持部に保持された基板側に露出した複数の溝を有し、複数の溝のそれぞれの延在方向は鉛直方向の成分を含む。このため、処理液の液滴が溝内で合流して自重により落下しやすい。