METAL MASK MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

The purpose of the present invention is to provide a metal mask material which has a very small number of fine oxide-based nonmetallic inclusions and is capable of exhibiting excellent etching processability. Provided are: a metal mask material which has composition containing, in mass%, 0.01% or le...

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Hauptverfasser: OMORI, Akihiro, HADANO, Yuuichi
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:The purpose of the present invention is to provide a metal mask material which has a very small number of fine oxide-based nonmetallic inclusions and is capable of exhibiting excellent etching processability. Provided are: a metal mask material which has composition containing, in mass%, 0.01% or less of C, 0.5% or less of Si, 1.0% or less of Mn, and 30-50% of Ni, with the remainder comprising Fe and inevitable impurities, wherein, per 1 g of the metal mask material, the number of oxide-based nonmetallic inclusions having a diameter greater than 10.0 µm is 2.0 or less and the number of oxide-based nonmetallic inclusions having a diameter of 6.0-10.0 µm is 20.0 or less, and the metal mask material is in the shape of a thin plate having a plate thickness of 0.25 mm or less; and a method for manufacturing the metal mask material. Le but de la présente invention est de fournir un matériau de masque métallique possédant un très petit nombre d'inclusions non métalliques fines à base d'oxyde et apte à offrir une excellente aptitude au traitement de gravure. L'invention concerne : un matériau de masque métallique qui possède une composition renfermant, en pourcentage en masse, 0,01 % ou moins de C, 0,5 % ou moins de Si, 1,0 % ou moins de Mn et de 30 à 50 % de Ni, le reste comprenant du Fe et des impuretés inévitables, ledit matériau étant tel que pour 1 g du matériau de masque métallique, le nombre d'inclusions non métalliques à base d'oxyde possédant un diamètre supérieur à 10,0 µm est de 2,0 ou moins et le nombre d'inclusions non métalliques à base d'oxyde possédant un diamètre de 6,0 à 10,0 µm est de 20,0 ou moins, le matériau de masque métallique est en forme de plaque mince possédant une épaisseur de plaque de 0,25 mm ou moins ; et un procédé de fabrication du matériau de masque métallique. 本発明は、酸化物系非金属介在物が微細であり、個数も非常に少ない、優れたエッチング加工性を発揮することが可能なメタルマスク用素材を提供することを目的とする。 質量%で、C:0.01%以下、Si:0.5%以下、Mn:1.0%以下、Ni:30~50%を含有し、残部がFe及び不可避的不純物からなる組成を有するメタルマスク用素材であって、前記メタルマスク用素材1g当たりにおける、直径10.0μmを超える酸化物系非金属介在物が2.0個以下であり、直径が6.0~10.0μmである酸化物系非金属介在物の個数が20.0個以下であり、板厚0.25mm以下の薄板形状である、メタルマスク用素材およびその製造方法。