FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS

A fluid handling structure (12) configured to confine immersion fluid to a region of a lithographic apparatus, the fluid handling structure comprising: an aperture (15) formed therein for the passage there through of a projection beam through the immersion fluid; a first part (100); and a second par...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: TEUNISSEN, Marcel, Maria, Cornelius, Franciscus, CORTIE, Rogier, Hendrikus, Magdalena, TEN KATE, Nicolaas, CUYPERS, Koen, BUDDENBERG, Harold, Sebastiaan, KEUKENS, Floor, Lodewijk, ROPS, Cornelius, Maria, VAN ERVE, Jantien, Laura, TANASA, Gheorghe, VAN DEN EIJNDEN, Pepijn, POLET, Theodorus, Wilhelmus, FRENCKEN, Mark, Johannes, Hermanus, GATTOBIGIO, Giovanni, Luca, VAN VLIET, Evert
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A fluid handling structure (12) configured to confine immersion fluid to a region of a lithographic apparatus, the fluid handling structure comprising: an aperture (15) formed therein for the passage there through of a projection beam through the immersion fluid; a first part (100); and a second part (200); and wherein at least one of the first part and the second part define a surface (20) adapted for the extraction of the immersion fluid from the region; and wherein the fluid handling structure is adapted to provide a fluid flow into or out of the surface of the fluid handling structure and wherein movement of the first part relative to the second part is effective to change a position of the fluid flow into or out of the surface relative to the aperture, and wherein one of the first part and second part comprises at least one through-hole (51, 61) for the fluid flow there through and the other of the first part and second part comprises at least one opening (55, 65) for the fluid flow there through, the at least one through-hole and at least one opening being in fluid communication when aligned, the movement allowing alignment of the at least one opening with different ones of the at least one through-hole thereby to change the position of the fluid flow into or out of the surface relative to the aperture. Selon la présente invention, une structure de manipulation de fluide (12) est configurée pour confiner un fluide d'immersion dans une région d'un appareil lithographique, la structure de manipulation de fluide comprenant : une ouverture (15) formée à l'intérieur de cette dernière destinée au passage d'un faisceau de projection à travers le fluide d'immersion ; une première partie (100) ; et une seconde partie (200) ; et la première partie et/ou la seconde partie définissant une surface (20) adaptée à l'extraction du fluide d'immersion de la région ; et la structure de manipulation de fluide étant conçue pour fournir un flux de fluide à l'intérieur ou à l'extérieur de la surface de la structure de manipulation de fluide et le mouvement de la première partie par rapport à la seconde partie étant efficace pour modifier une position du flux de fluide à l'intérieur ou à l'extérieur de la surface par rapport à l'ouverture, et l'une de la première partie et de la seconde partie comprenant au moins un trou traversant (51, 61) destiné au flux de fluide à travers ce dernier et l'autre de la première partie et de la seconde partie comprenant au moins une ouvertu