ALIGNMENT METHOD

A method of determining the position of an alignment mark (29) on a substrate, the alignment mark (29) comprising a first segment (29a) and a second segment (29b), the method comprising illuminating the alignment mark with radiation, detecting radiation diffracted by the alignment mark and generating a resulting alignment signal. The alignment signal comprises a first component received during illumination of the first segment only (beam profile 35 is on the left), a second component received during illumination of the second segment only (beam profile 35 is on the right), and a third component received during simultaneous illumination of both segments (when the beam passes the boundary between 29a and 29b). The positions of the segments (29a, 29b) are determined using the first component, the second component and the third component of the alignment signal. L'invention concerne un procédé de détermination de la position d'un repère d'alignement (29) sur un substrat, le repère d'alignement (29) comprenant un premier segment (29a) et un second segment (29b); le procédé consiste à éclairer le repère d'alignement par un rayonnement, détecter un rayonnement diffracté par le repère d'alignement et générer un signal d'alignement résultant. Le signal d'alignement comprend une première composante reçue pendant l'éclairage du premier segment uniquement (le profil de faisceau 35 est sur la gauche), une deuxième composante reçue pendant l'éclairage du second segment uniquement (le profil de faisceau 35 est sur la droite), et une troisième composante reçue pendant l'éclairage simultané des deux segments (lorsque le faisceau passe la limite entre 29a et 29b). Les positions des segments sont déterminées à l'aide des première, deuxième et troisième composantes du signal d'alignement.