METHOD OF IMPRINT LITHOGRAPHY OF CONDUCTIVE MATERIALS; STAMP FOR IMPRINT LITHOGRAPHY, AND APPARATUS FOR IMPRINT LITHOGRAPH

A method of patterning with imprint lithography, a stamp for imprint lithography, an imprint roller of a roll-to-roll substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus are described. The method includes providing a layer of a conductive paste on a substrate, wherein the conductive...

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Hauptverfasser: VISSER, Robert Jan, CUNNINGHAM, Kevin L
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of patterning with imprint lithography, a stamp for imprint lithography, an imprint roller of a roll-to-roll substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus are described. The method includes providing a layer of a conductive paste on a substrate, wherein the conductive paste has a viscosity of 0.3 Pa.s or above, particularly of 1.5 Pa.s or above; imprinting a stamp in the layer of the conductive paste to generate a patterned layer of the conductive paste; fully or partially curing the patterned layer; and releasing the stamp from the patterned layer. L'invention porte également sur un procédé de formation de motifs par impression lithographique, sur un tampon pour impression lithographique, sur un rouleau d'impression d'un appareil de traitement de substrat rouleau à rouleau, et sur un appareil de traitement de substrat. Le procédé comprend la fourniture d'une couche d'une pâte conductrice sur un substrat, la pâte conductrice ayant une viscosité de 0,3 Pa.s ou plus, en particulier de 1,5 Pa.s ou plus; l'impression d'un tampon dans la couche de la pâte conductrice pour générer une couche à motifs de la pâte conductrice; le durcissement complet ou partiel de la couche à motifs; et la libération du tampon à partir de la couche à motifs.