HIGH PURITY ETHYLENEDIAMINE FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS

Ethylenediamine (EDA) compositions and methods for making the EDA that is suitable for use in thin-film semiconductor processing applications, are disclosed. The EDA is purified to remove water and trace metals. Water levels below about 50 ppm by weight are achieved by passing liquid through 3A type molecular sieve in a packed bed. Metallic impurities are removed by distillation and the resulting product is packaged in specially dried and optionally pre-conditioned containers. L'invention porte sur des compositions d'éthylènediamine (EDA) et sur des procédés pour fabriquer l'EDA qui est approprié pour être utilisé dans des applications de traitement de semi-conducteurs à couches minces. L'EDA est purifié pour éliminer l'eau et les traces de métaux. Des niveaux d'eau inférieurs à environ 50 ppm en poids sont obtenus en faisant passer un liquide à travers un tamis moléculaire de type 3A dans un lit tassé. Les impuretés métalliques sont éliminées par distillation et le produit obtenu est emballé dans des récipients spécialement séchés et éventuellement pré-conditionnés.