SUBSTRATE ASSEMBLY AND RELATED METHODS

Example sensor apparatus for microfluidic devices and related methods are disclosed. In examples disclosed herein, a method of fabricating a sensor apparatus for a microfluidic device includes etching a portion of an intermediate layer to form a sensor chamber in a substrate assembly, where the substrate assembly has a base layer and the intermediate layer, and where the base layer comprises a first material and the intermediate layer comprises a second material different than the first material. The method includes forming a first electrode and a second electrode in the sensor chamber. The method also includes forming a fluidic transport channel in fluid communication with the sensor chamber, where the fluidic transport channel comprises a third material different than the first material and the second material. Dans l'un de ses exemples, l'invention concerne un appareil capteur destiné à des dispositifs microfluidiques, ainsi que des procédés connexes. Dans des exemples décrits, un procédé de fabrication d'un appareil capteur destiné à un dispositif microfluidique consiste à graver une partie d'une couche intermédiaire afin de former une chambre de capteur dans un ensemble substrat, l'ensemble substrat comprenant une couche de base et la couche intermédiaire, la couche de base comprenant un premier matériau et la couche intermédiaire comprenant un second matériau différent du premier matériau. Le procédé consiste à former une première électrode et une seconde électrode dans la chambre de capteur. Le procédé consiste également à former un canal de transport fluidique en communication fluidique avec la chambre de capteur, ce canal de transport fluidique comprenant un troisième matériau différent du premier et du second matériau.