CYCLIC ERROR MEASUREMENTS AND CALIBRATION PROCEDURES IN INTERFEROMETERS

There is provided an interferometer system, comprising an heterodyne interferometer and a processing system. The heterodyne interferometer is arranged to provide a reference signal and a measurement signal. The reference signal has a reference phase. The measurement signal has a measurement phase an...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VAN DER PASCH, Engelbertus, Antonius, Fransiscus, COSIJNS, Suzanne, Johanna, Antonetta, Geertruda, JANSEN, Maarten, Jozef
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	There is provided an interferometer system, comprising an heterodyne interferometer and a processing system. The heterodyne interferometer is arranged to provide a reference signal and a measurement signal. The reference signal has a reference phase. The measurement signal has a measurement phase and an amplitude. The processing system is arranged to determine a cyclic error of the heterodyne interferometer based on the reference phase, the measurement phase and the amplitude. La présente invention concerne un système d'interféromètre, comprenant un interféromètre hétérodyne et un système de traitement. L'interféromètre hétérodyne est configuré pour fournir un signal de référence et un signal de mesure. Le signal de référence présente une phase de référence. Le signal de mesure présente une phase de mesure et une amplitude. Le système de traitement est configuré pour déterminer une erreur cyclique de l'interféromètre hétérodyne sur la base de la phase de référence, la phase de mesure et l'amplitude.