METHOD FOR MANUFACTURING ILLUMINANCE ADJUSTMENT FILTER, ILLUMINANCE ADJUSTMENT FILTER, LIGHTING OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE

This method for manufacturing an illuminance adjustment filter comprises steps of: measuring illuminance I(i) at an arbitrary point i (i is an integer) on an exposure surface with no optical filter (90) placed in an optical path EL; calculating the optical transmittance distribution for each cell (91) on the basis of the measured illuminance I(i) at each point; and forming an optical filter (90) including cells (91) each having a pattern (93) corresponding to the calculated optical transmittance distribution. Thus, any variation in the illuminance distribution on the exposure surface caused by components constituting a lighting optical system is minimized. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un filtre de réglage d'éclairement comprenant les étapes suivantes : mesure de l'éclairement I(i) à un point arbitraire i (i est un nombre entier) sur une surface d'exposition sans qu'un filtre optique (90) soit placé dans un trajet optique EL ; calcule de la distribution du facteur de transmission optique pour chaque cellule (91) en se basant sur l'éclairement I(i) mesuré à chaque point ; et formation d'un filtre optique (90) comprenant des cellules (91) ayant chacune un motif (93) correspondant à la distribution du facteur de transmission optique calculée. Ainsi, toute variation de la distribution de l'éclairement sur la surface d'exposition provoquée par les composants constituant un système optique d'éclairage est réduite au minimum. 光路ＥＬ内に光学フィルタ（９０）を配置しない状態で露光面上における任意の点ｉ（ｉは、整数）の照度Ｉ（ｉ）を測定し、測定された各点の照度Ｉ（ｉ）に基づいて、各セル（９１）の光透過率分布を算出した後、算出された光透過率分布に対応するパターン（９３）をそれぞれ備えたセル（９１）を含む光学フィルタ（９０）を形成する。これにより、照明光学系の構成要素に起因する露光面での照度分布のばらつきを抑制する。