SENSING DEVICE AND METHOD
A device and method are provided that allow a droplet of solution to be well controlled on a sensor region. One or more sensor structures are disposed above the substrate of the device, each sensor structure being disposed within an associated sensor region of the device. Further provided are one or...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A device and method are provided that allow a droplet of solution to be well controlled on a sensor region. One or more sensor structures are disposed above the substrate of the device, each sensor structure being disposed within an associated sensor region of the device. Further provided are one or more frames, each frame surrounding an associated sensor region and being formed of a material having a second wettability lower than a first wettability of at least part of the surface of the device within the frame.
L'invention porte également sur un dispositif et sur un procédé qui permettent à une gouttelette de solution d'être bien contrôlée sur une région de capteur. Une ou plusieurs structures du capteur sont disposées au-dessus du substrat du dispositif, chaque structure de capteur étant disposée à l'intérieur d'une région de capteur associée du dispositif. L'invention concerne en outre un ou plusieurs cadres, chaque cadre entourant une région de capteur associée et étant formé d'un matériau ayant une seconde mouillabilité inférieure à une première mouillabilité d'au moins une partie de la surface du dispositif à l'intérieur du cadre. |
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