METHOD AND DEVICE FOR PUPIL ILLUMINATION IN OVERLAY AND CRITICAL DIMENSION SENSORS

An illumination system for a metrology apparatus that can achieve illumination spatial profile flexibility, high polarization extinction ratio, and high contrast. The illumination system includes a polarizing beam splitter (PBS), an illumination mode selector (IMS), and a reflective spatial light modulator (SLM). The PBS divides an illumination beam into sub-beams. The IMS has a plurality of apertures that transmits at least one sub-beam and may be arranged in multiple illumination positions corresponding to illumination modes. A pixel array of the reflective SLM and reflects a portion of the sub-beam transmitted by the IMS back to the IMS and PBS. The PBS, IMS, SLM collectively generates a complex amplitude or intensity spatial profile of the transmitted sub-beam. L'invention concerne un système d'éclairage destiné à un appareil de métrologie, capable d'obtenir une souplesse du profil spatial d'éclairage, un rapport élevé de polarisation d'extinction, et un contraste élevé. Le système d'éclairage comprend un séparateur de faisceau polarisant (PBS), un sélecteur de mode d'éclairage (IMS), et un modulateur spatial de lumière (SLM) réfléchissant. Le PBS divise un faisceau d'éclairage en sous-faisceaux. L'IMS est doté d'une pluralité d'ouvertures qui transmet au moins un sous-faisceau et peut être disposée dans des positions d'éclairage multiples correspondant à des modes d'éclairage. Une matrice de pixels du SLM réfléchissant réfléchit une partie du sous-faisceau transmis par l'IMS et le renvoie à l'IMS et au PBS. Le PBS, l'IMS et le SLM génèrent collectivement un profil spatial complexe d'amplitude ou d'intensité du sous-faisceau transmis.