PATTERNING DEVICE

A patterning device comprising a reflective marker, wherein the marker comprises: a plurality of reflective regions configured to preferentially reflect radiation having a given wavelength; and a plurality of absorbing regions configured to preferentially absorb radiation having the given wavelength; wherein the absorbing and reflective regions are arranged to form a patterned radiation beam reflected from the marker when illuminated with radiation, and wherein the reflective regions comprise a roughened reflective surface, the roughened reflective surface being configured to diffuse radiation reflected from the reflective regions, and wherein the roughened reflective surface has a root mean squared roughness of about an eighth of the given wavelength or more. La présente invention concerne un dispositif de formation de motifs comprenant un marqueur réfléchissant, le marqueur comprenant : une pluralité de régions réfléchissantes configurées pour réfléchir de préférence un rayonnement ayant une longueur d'onde donnée ; et une pluralité de régions d'absorption configurées pour absorber de préférence un rayonnement ayant la longueur d'onde donnée ; les régions réfléchissantes et d'absorption étant conçues pour former un faisceau de rayonnement à motifs réfléchi par le marqueur lorsqu'il est éclairé par un rayonnement, et les régions réfléchissantes comprenant une surface réfléchissante rugueuse, la surface réfléchissante rugueuse étant configurée pour diffuser le rayonnement réfléchi par les régions réfléchissantes, et la surface réfléchissante rugueuse ayant une rugosité quadratique moyenne d'environ un huitième de la longueur d'onde donnée ou plus.