CRITICAL DIMENSION CONTROL BY USE OF A PHOTO AGENT

A method for critical dimension control in which a substrate is received having an underlying layer and a patterned layer formed on the underlying layer, the patterned layer including radiation- sensitive material and a pattern of varying elevation with a first critical dimension. The method further includes applying an overcoat layer over the patterned layer, the overcoat layer containing a photo agent selected from a photosensitizer generator compound, a photosensitizer compound, a photoacid generator compound, a photoactive agent, an acid- containing compound, or a combination of two or more thereof. The overcoat layer is then exposed to electromagnetic radiation, wherein the dose of electromagnetic radiation applied to different regions of the substrate is varied, and then the overcoat layer and patterned layer are heated. The method further includes developing the overcoat layer and the patterned layer to alter the first critical dimension of the patterned layer to a second critical dimension. L'invention concerne un procédé de commande de dimension essentielle, dans lequel un substrat est reçu et a une couche sous-jacente et une couche à motifs formée sur la couche sous-jacente, la couche à motifs comprenant un matériau sensible au rayonnement et un motif d'élévation variable avec une première dimension essentielle. Le procédé consiste en outre à appliquer une couche de finition sur la couche à motifs, la couche de finition contenant un agent photographique choisi parmi un composé générateur de photosensibilisant, un composé de photosensibilisant, un composé générateur de photo-acide, un agent photo-actif, un composé contenant un acide ou une combinaison d'au moins deux de ces derniers. La couche de finition est ensuite exposée à un rayonnement électromagnétique, la dose de rayonnement électromagnétique appliquée à différentes régions du substrat étant variée, puis la couche de finition et la couche à motifs sont chauffées. Le procédé consiste en outre à développer la couche de finition et la couche à motifs pour modifier la première dimension essentielle de la couche à motifs en une seconde dimension essentielle.