ENHANCED DEFECT REMOVAL THROUGH SUBSTRATE AND MEDIA CHARGE MODULATION
Equipment and processes for enhanced defect removal through substrate and media charge modulation are described. In an example, a system for defect removal through substrate and media charge modulation is provided. In another example, a method for defect removal through substrate and media charge mo...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Equipment and processes for enhanced defect removal through substrate and media charge modulation are described. In an example, a system for defect removal through substrate and media charge modulation is provided. In another example, a method for defect removal through substrate and media charge modulation is provided.
L'invention porte sur un équipement et sur des procédés permettant de réaliser une élimination améliorée des défauts par la modulation de la charge du substrat et du support. Dans un exemple, un système pour l'élimination des défauts par la modulation de la charge du substrat et du support est utilisé. Dans un autre exemple, un procédé d'élimination des défauts par la modulation de la charge du substrat et du support est utilisé. |
---|