ILLUMINATION SYSTEM AND METROLOGY SYSTEM

Disclosed is an illumination system for a metrology apparatus and a metrology apparatus comprising such an illumination system. The illumination system comprises an illumination source; and a linear variable filter arrangement configured to filter a radiation beam from said illumination source and c...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MAASSEN, Martinus, DE WIT, Johannes, Matheus, Marie, SIJBEN, Anko, Jozef, Cornelus, VAN DE GROES, Henricus, Martinus, Johannes, FEIJEN, Kim, Gerard
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed is an illumination system for a metrology apparatus and a metrology apparatus comprising such an illumination system. The illumination system comprises an illumination source; and a linear variable filter arrangement configured to filter a radiation beam from said illumination source and comprising one or more linear variable filters. The illumination system is operable to enable selective control of a wavelength characteristic of the radiation beam subsequent to it being filtered by the linear variable filter arrangement. L'invention concerne un système d'éclairage pour un appareil de métrologie et un appareil de métrologie comprenant un tel système d'éclairage. Le système d'éclairage comprend une source d'éclairage ; et un dispositif de filtre variable linéaire configuré pour filtrer un faisceau de rayonnement provenant de ladite source d'éclairage et comprenant un ou plusieurs filtres variables. Le système d'éclairage est conçu pour permettre une régulation sélective d'une caractéristique de longueur d'onde du faisceau de rayonnement après sa filtration par le dispositif de filtre variable linéaire.