ELECTRON SOURCE FOR A FREE ELECTRON LASER

An electron source, e.g. for a free electron laser used for EUV lithography comprises: * a cathode (203) configured to be connected to a negative potential (100, 101); * a laser (110) configured to direct pulses of radiation onto the cathode so as to cause the cathode to emit bunches of electrons; * an RF booster (180) connected to an RF source and configured to accelerate the bunches of electrons; and * a timing corrector (303, 313, 400, 401) configured to correct the time of arrival of bunches of electrons at the RF booster relative to the RF voltage provided by the RF source. The timing corrector may comprise a correction electrode (303, 313) surrounding a path of the bunches of electrons from the cathode to the RF booster and a correction voltage source (400, 401) configured to apply a correction voltage to the correction electrode. L'invention porte sur une source d'électrons, par exemple pour un laser à électrons libres utilisé pour une lithographie EUV, qui comprend : * une cathode (203) configurée pour être connectée à un potentiel négatif (100, 101) ; * un laser (110) configuré pour diriger des impulsions de rayonnement sur la cathode afin d'amener la cathode à émettre des groupements d'électrons ; * un amplificateur RF (180) connecté à une source RF et configuré pour accélérer les groupements d'électrons ; et * un correcteur de synchronisation (303, 313, 400, 401) configuré pour corriger l'instant d'arrivée de groupements d'électrons au niveau de l'amplificateur RF par rapport à la tension RF fournie par la source RF. Le correcteur de synchronisation peut comprendre une électrode de correction (303, 313) entourant un chemin des groupements d'électrons de la cathode à l'amplificateur RF et une source de tension de correction (400, 401) configurée pour appliquer une tension de correction à l'électrode de correction.