XPS AND RAMAN SAMPLE ANALYSIS SYSTEM AND METHOD
A process of analyzing a sample by Raman spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) includes providing a sample having a sample surface within a vacuum chamber, performing a Raman spectroscopic analysis on a plurality of selected areas of the sample surface within the vacuum chamber to...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A process of analyzing a sample by Raman spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) includes providing a sample having a sample surface within a vacuum chamber, performing a Raman spectroscopic analysis on a plurality of selected areas of the sample surface within the vacuum chamber to map an area of the sample surface comprising the selected areas, the Raman spectroscopic analysis including identifying one or more chemical and/or structural features of the sample surface in one or more of the selected areas of the sample surface, and performing an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of one or more selected areas of the sample surface containing at least one chemical and/or structural feature identified by the Raman spectroscopic analysis, wherein the duration of the XPS analysis of a given selected area of the sample surface is longer than the duration of the Raman spectroscopic analysis of that given selected area.
La présente invention se rapporte à un procédé d'analyse d'un échantillon par spectroscopie Raman et par spectroscopie de photoélectrons X (XPS), qui consiste à utiliser un échantillon ayant une surface d'échantillon à l'intérieur d'une chambre à vide, à effectuer une analyse spectroscopique Raman sur une pluralité de zones sélectionnées de la surface d'échantillon à l'intérieur de la chambre à vide afin de mapper une zone de ladite surface d'échantillon comprenant les zones sélectionnées, l'analyse spectroscopique Raman incluant l'identification d'une ou plusieurs caractéristiques chimiques et/ou structurales de la surface d'échantillon dans une ou plusieurs des zones sélectionnées de cette surface d'échantillon, et à effectuer une analyse par spectroscopie de photoélectrons X (XPS) d'une ou plusieurs zones sélectionnées de la surface d'échantillon contenant au moins une caractéristique chimique et/ou structurale identifiée par l'analyse spectroscopique Raman, la durée de l'analyse XPS d'une zone sélectionnée donnée de ladite surface d'échantillon étant plus longue que la durée de l'analyse spectroscopique Raman de cette zone sélectionnée donnée. |
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