POLISHING SYSTEMS AND METHODS OF MAKING AND USING SAME

A polishing system includes a substrate to be polished and a polishing pad. The polishing pad includes a base layer and a wear resistant layer. The system further includes a polishing solution disposed between the polishing pad and the substrate. The polishing solution includes a fluid component and a plurality of ceramic abrasive composites. The ceramic abrasive composites include individual abrasive particles uniformly dispersed throughout a porous ceramic matrix. At least a portion of the porous ceramic matrix includes glassy ceramic material. The ceramic abrasive composites are dispersed in the fluid component. La présente invention concerne un système de polissage comprenant un substrat à polir et un tampon de polissage. Le tampon de polissage comprend une couche de base et une couche résistante à l'usure. Le système comprend en outre une solution de polissage disposée entre le tampon de polissage et le substrat. La solution de polissage comprend un composant liquide et une pluralité de composites abrasifs en céramique. Les composites abrasifs en céramique comprennent des particules abrasives individuelles uniformément dispersées à travers une matrice céramique poreuse. Au moins une partie de la matrice céramique poreuse comprend un matériau en céramique vitreuse. Les composites abrasifs en céramique sont dispersés dans le composant liquide.