HOT SPOT AND PROCESS WINDOW MONITORING

Metrology overlay targets are provided, as well as method of monitoring process shortcomings. Targets comprise periodic structures, at least one of which comprising repeating asymmetric elements along a corresponding segmentation direction of the periodic structure. The asymmetry of the elements may be designed in different ways, for example as repeating asymmetric sub-elements along a direction perpendicular to the segmentation direction of the elements. The asymmetry of the sub-elements may be designed in different ways, according to the type of monitored process shortcomings, such as various types of hot spots, line edge shortening, process windows parameters and so forth. Results of the measurements may be used to improve the process and/or increase the accuracy of the metrology measurements. L'invention concerne des cibles de superposition de métrologie, ainsi qu'un procédé de surveillance de défauts de traitement. Des cibles comprennent des structures périodiques, au moins une de celles-ci comprenant des éléments asymétriques de répétition le long d'une direction de segmentation correspondante de la structure périodique. L'asymétrie des éléments peut être conçue de différentes manières, par exemple comme sous-éléments asymétriques de répétition dans une direction perpendiculaire à la direction de segmentation des éléments. L'asymétrie des sous-éléments peut être conçue de différentes manières, selon le type de défauts de traitement surveillés, tels que divers types de points chauds, un raccourcissement de bord de ligne, des paramètres de fenêtre de traitement, etc. Des résultats des mesures peuvent être utilisés pour améliorer le traitement et/ou pour augmenter la précision des mesures de métrologie.