A LITHOGRAPHIC SYSTEM AND METHOD

A system comprises a first radiation source configured to provide a first radiation beam, at least one splitter configured to split the first radiation beam into a first plurality of sub-beams, a second radiation source configured to provide a second radiation beam, at least one further splitter configured to split the second radiation beam into a second plurality of sub-beams, and a switch assembly, wherein the switch assembly is configured to receive a first sub-beam which is one of the first plurality of sub-beams; receive a second sub-beam which is one of the second plurality of sub-beams, in a first configuration to transmit the first sub-beam along a desired path, and in a second configuration to transmit the second sub-beam along said desired path. L'invention concerne un système qui comprend une première source de rayonnement conçue pour fournir un premier faisceau de rayonnement, au moins un séparateur conçu pour diviser le premier faisceau de rayonnement en une première pluralité de sous-faisceaux, une deuxième source de rayonnement conçue pour fournir un deuxième faisceau de rayonnement, au moins un autre séparateur conçu pour diviser le deuxième faisceau de rayonnement en une deuxième pluralité de sous-faisceaux, et un ensemble commutateur. L'ensemble commutateur est conçu pour recevoir un premier sous-faisceau de la première pluralité de sous-faisceaux ; pour recevoir un deuxième sous-faisceau de la deuxième pluralité de sous-faisceaux dans une première configuration afin de transmettre le premier sous-faisceau suivant un trajet voulu, et dans une deuxième configuration afin de transmettre le deuxième sous-faisceau suivant ledit trajet voulu.