SUBSTRATE TABLE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF OPERATING A LITHOGRAPHIC APPARATUS

A substrate table (WT) configured to support a substrate (W) for exposure in an immersion lithographic apparatus, the substrate table comprising: a support body (30) having a support surface (31) configured to support the substrate; and a cover ring (130) fixed relative to the support body and confi...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	STALS, Walter, Theodorus, Matheus, VIEYRA SALAS, Jorge, Alberto, POLET, Theodorus, Wilhelmus, VAN LIESHOUT, Josephus, Peter, VAN SOMMEREN, Daan, Daniel, Johannes, Antonius, BALTIS, Coen, Hubertus, Matheus, BUDDENBERG, Harold, Sebastiaan, VAN DE VIJVER, Yuri, Johannes, Gabriël, GATTOBIGIO, Giovanni, Luca, MELMAN, Johannes, Cornelis, Paulus, NAKIBOGLU, Günes, ZDRAVKOV, Aleksandar, Nikolov
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A substrate table (WT) configured to support a substrate (W) for exposure in an immersion lithographic apparatus, the substrate table comprising: a support body (30) having a support surface (31) configured to support the substrate; and a cover ring (130) fixed relative to the support body and configured to surround, in plan view, the substrate supported on the support surface, wherein the cover ring has an upper surface (60); wherein at least a portion (61) of the upper surface is configured so as to alter the stability of a meniscus (17) of immersion liquid when moving along the upper surface towards the substrate. L'invention concerne une table de substrat (WT) configurée pour soutenir un substrat (W) pour une exposition dans un appareil lithographique à immersion, la table de substrat comprenant : un corps de support (30) ayant une surface de support (31) configurée pour soutenir le substrat ; et une bague de couvercle (130) fixe par rapport au corps de support et configurée pour entourer, dans une vue en plan, le substrat soutenu sur la surface de support, la bague de couvercle ayant une surface supérieure (60) ; au moins une partie (61) de la surface supérieure étant configurée pour modifier la stabilité d'un ménisque (17) de liquide d'immersion lors d'un déplacement le long de la surface supérieure vers le substrat.